Sonderforschungsbereich 546

"Struktur, Dynamik und Reaktivität von Übergangsmetalloxid-Aggregaten"


Teilprojekt C2 - beendet.

Allgemeine Angaben
 
Thema: Geometrische und elektronische Struktur von Oxidoberflächen und adsorbierten Clustern

Fachgebiete und Arbeitsrichtung: Oberflächenphysik: Oberflächenanalytik, Ionenstreuung, Elektronenspektroskopie, Rastersondenmikroskopie

Leiter: Prof. Dr. Horst Niehus

Humboldt-Universität zu Berlin
Institut für Physik
Newtonstr. 15
12489 Berlin
Telefon: 030-2093 7691
Telefax: 030-2093 7737
E-Mail-Adresse: niehus@physik.hu-berlin.de

Beschreibung

Das Projekt soll im wesentlichen die Schwerpunktstruktur der letzten Förderperiode weiterführen. Die im UHV und in Erweiterung zur ersten Förderperiode auch unter Normalbedingungen zum Teil selber hergestellten Vanadiumoxidmaterialien werden hinsichtlich struktureller und elektronischer Eigenschaften analysiert, sowie schließlich mit reaktiver Molekularstrahltechnik bezüglich ihrer chemischen Reaktivität charakterisiert.
Im ersten Unterprojekt UP1 liegt der Nachdruck auf Untersuchungen der Entstehung, des Wachstums und der Struktur geordneter 2D VOx Oberflächen im UHV. Zum grundlegenden Studium der Vanadiumoxidation wird die Ausbildung verschiedener Oxidationsstufen an geordneten Mischkristallen verfolgt (z. B. an V75Ru25(110)). Aufbauend auf den bisherigen Erfahrungen zur kontrollierten Oxidation dünner Vanadiumfilme (V2O3/Cu3Au(100)) und Herstellung epitaktischer Oxidstrukturen (VOx/Ir(100)) soll der Schwerpunkt nun auch auf das Wachstum stabiler VO2 und V2O5 Phasen gelegt werden. Dazu werden Wachstumsprozesse auf Cu3Au(111) und anderen geeigneten Substraten untersucht (Koordination mit TP C1). V2O5 Filme lassen sich wahrscheinlich durch van der Waals Epitaxie auf Übergangsmetallchalkogeniden erzeugen, wobei die Oxidation sowohl mit H2O als auch mit atomarem Sauerstoff durch die vorhandene ECR-Quelle erfolgen wird. An Volumeneinkristalloberflächen (V2O5 und V2O3 aus TP C4) werden adsorbatabhängige lokale Reduktions- und Reoxidationsprozesse (Defekte) im Temperaturbereich von 100 K bis 600 K untersucht. Die strukturellen Veränderungen sollen mit ihren lokalen elektronischen Eigenschaften (STS – Theorie TP C6) und deren Einfluss auf die Reaktivität korreliert werden. In Zusammenarbeit mit TP C3 (Tieftemperatur-STM) können dann auch gezielt Defekte produziert werden. Zur Charakterisierung der beschriebenen Strukturen werden wir auch in Zukunft vornehmlich mit unseren erprobten Methoden der Streuung (ISS, DRS), Beugung (LEED), Elektronenspektroskopie (AES, UPS) und mikroskopischen Methoden (STM, STS, AFM, REM) zurückgreifen.
Im Unterprojekt UP2 soll die Clustererzeugung auf geeigneten Oberflächen studiert werden. Dazu wird die Positionierung von VOx Clustern im UHV auf selbstorganisierten Nanostrukturen (Cu(100)-c(2x2)N, und andere) weiterentwickelt. Des weiteren stehen Maskentechniken zur substratunabhängigen Clusterdeposition (z. B. auf SiO2) in unserer Gruppe zur Verfügung. Unter Normalbedingungen sollen lithographisch erzeugte Template auf Glas, Si, ITHO sowie kolloidale Masken als Projektionsgitter und Gerüste für mesoporöse Oxidstrukturen verwendet werden. Darüber hinaus werden V2O5 Nanokristalle nasschemisch hergestellt und weitere VOx Phasen durch elektrochemische Pulsdeposition erzeugt. Die Untersuchung der strukturellen Parameter erfolgt hier im wesentlichen über AFM, während die chemischen Reaktionen wieder mit der Molekularstrahltechnik im UHV oder in Strömungsreaktoren (TP B3) ermittelt werden können.

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